当社社員が寄稿した「高温処理ウェットステーションの現在地と未来 ～BATCH式からのHTSの系譜～」が掲載されている書籍「半導体製造における洗浄技術」がシーエムシー出版より発売されております。
ご興味をお持ちの方は是非ご購入をお願いいたします。
半導体製造における洗浄技術|シーエムシー出版